三星第二代3nm GAA工艺将于2024年量产,或被更多移动SoC采用

前一段时间,三星在京畿道华城工厂V1生产线,举行了采用下一代GAA(GATE-ALL-AROUND)架构晶体管技术的3NM代工产品发货仪式。三星表示,与原来采用FINFET的5NM工艺相比,初代3NM GAA制程节点在功耗、性能和面积(PPA)方面有不同程度的改进,其面积减少了16%、性能提高23%、功耗降低45%。

虽然三星信心满满,但事实上目前3NM GAA工艺缺乏客户,更重要的是,平时热衷采用新工艺的移动SOC暂时都没有选用。有消息指出,三星可能会使用3NM工艺制造EXYNOS 2300,或用于明年的GALAXY S23系列,不过有报道称由于表现不达预期,GALAXY S23系列可能全部采用高通的解决方案。此外,谷歌第三代TENSOR芯片也可能采用三星3NM工艺,将用于PIXEL 8系列,但目前还没有消息。

近年来三星的其中一个大客户高通,由于4NM/5NM的良品率和能效问题,在新一代旗舰SOC上已转投台积电(TSMC),对三星造成了相当大的打击。据WCCFTECH报道,高通对三星第一代3NM GAA工艺兴趣不大,不过有留意其进展情况,随时进行评估,到第二代3NM GAA工艺可能会参与进来。

据了解,三星第二代3NM GAA工艺将会在2024年量产。三星表示,第二代3NM GAA工艺将加入MBCFET架构,使得3NM芯片的面积减少35%、性能提高30%、功耗降低50%,如果良品率也能跟上,这样的提升或许会让高通满意。